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《中国电子报》记者 孙永杰
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谁将成为笔记本市场的鸡肋

 

随着联想近日发布其IdeaPad S9S10两款新品,以正式进军“NetbookPC市场,目前,全球PC市场的前五大厂商(惠普、戴尔、Acer、联想和东芝)都已经推出了超低价便携笔记本(有的厂商称之为上网本),加上最早推出超低价便携笔记本—易PC的华硕,一场超低价便携笔记本市场的大战正式开始了。至于这场大战的结果究竟如何,笔者不敢断言,但按目前笔记本市场价格和性能区分的话,超低价便携笔记本和目前市场上所谓的低端笔记本之中,很可能会有一类成为笔记本市场的鸡肋。那么任何一类成为鸡肋的话,都会影响到笔记本市场的格局及相关的产业链。那么谁最有可能成为笔记本市场中的鸡肋?对于笔记本市场的格局和相关产业链又会产生何种影响?

 

从笔记本市场上游的处理器厂商看,英特尔今年已经推出了针对超低价便携笔记本的专用Atom系列处理器,之后威盛也推出了针对同样市场的Nano系列处理器,据称AMD也将在今年的第三季度推出类似的名为BGA的处理器。至少从表面上看,基于X86架构的三大处理器厂商都已经涉足超低价便携笔记本市场。从目前已经推出产品厂商采用的处理器看,除了惠普之外,戴尔、Acer、联想和华硕的超低价便携笔记本均采用了英特尔的Atom系列处理器,可以说和以往一样,英特尔在此市场依旧是推动和主宰者。也正是基于此,英特尔对于超低价便携笔记本市场的态度,从某种程度上决定了此市场的发展前景。那么英特尔对于自家的Atom系列处理器有何看法呢?日前,英特尔CEO欧德宁(Paul Otellini)称,从性能上看,Atom处理器不及迅驰的1/3Atom不会取代赛扬(主要用于低端笔记本市场的处理器),基于Atom的产品是一些价格低廉、功能有限的小屏幕设备,销售对象为首次购买计算机的用户,或者是家庭的第二部、第三部,甚至是第四部计算机。从欧德宁的话中,笔者认为,Atom处理器淡化的是性能,突出的应该是低廉的价格。由此可见,英特尔应该是给自己的Atom、赛扬和主流的双核处理器予以了清晰的定位和明显的价格区间。那么反映到笔记本厂商那里,超低价便携笔记本也理所当然地不但和主流的笔记本,也要和低端的笔记本市场有明显的性能或者价格区间才是。不过从目前超低价便携笔记本市场的走势看,并非完全如此。

 

从目前推出超低价便携笔记本的主流厂商看,价格基本上在25004000元不等。例如最早推出超低价便携笔记本的华硕,其第一代易PC目前市场上的售价在2300元左右,联想和惠普超便携笔记本的最低售价为399499美元(约合人民币2700元和3400元左右),而Acer推出的Aspire One的价格达到了4000元,由于是最低售价,所以笔者推断,整个超低价笔记本市场的价格应该在30004000元之间,个别高配版的价格应该在850美元左右,已经突破了5000元。而目前低端笔记本的价格也基本维持在这个价位段。甚至更低。例如联想近日就推出了价格在3000元左右的ThinkPad SL笔记本,而受到主流笔记本价格不断下降的压力,低端笔记本的价格仍会下降。从配置上看,除了处理器之外,在其他主要的配置上,超低价便携笔记本已经与目前的低端笔记本,甚至是主流的笔记本无异。例如联想刚刚发布的IdeaPad S9S10,就有高达160GB的硬盘和1GB的内存,而惠普的Mini-Note也有2GB内存和160GB硬盘的高配版本。

 

至此,笔者认为,目前的超低价便携笔记本已经与低端笔记本市场在价格上具有很大的重合。再看处理器性能(也是决定整个笔记本性能的关键因素之一),从英特尔Atom、低端的赛扬和非主流的双核酷睿来看,其之间的性能差异并未从价格上得以非常明显的区分。而华硕日前宣布将发布两个高端系列的易PC产品线,价格在700-900美元之间,期望将易PC推向更大范围的市场,至此,易PC已不再是单纯的低价便携笔记本(至少从价格上已经步入,甚至超过了低端笔记本的价格)。华硕的这一举措,无疑会对其他的厂商起到示范作用,并将目前超低价便携笔记本与低端笔记市场相差无几的价格再度拉近,甚至超过某些低端笔记本,性能上也会更加接近或者超越低端笔记本。看目前处理器和笔记本厂商推超低价便携笔记本的力度是很大的。例如英特尔就表示,要在今年和明年增加Atom的产量,而作为最早推出超低价便携笔记本的华硕则称其第三季低成本笔记本易PC出货量将比第二季增长50%。从全球此类市场看,IDC预计今年将至少有1300万台上市销售。

 

从上述厂商推广的力度看,低端笔记本沦为鸡肋的可能性极大。加之主流笔记本价格的走低,目前的低端笔记本市场最终被超低价便携笔记本取代的可能性也不是不存在。除了厂商之外,从用户的角度看,除了价格和性能之外,毕竟超低价便携笔记本还多了个超便携的卖点。

 

如果真如笔者所料的话,笔记本市场的格局也会相应发生改变。例如在过去的第一季度中,由于华硕易PC在市场上的成功,使得其笔记本的出货量已经逼近了联想,挤下了富士通与苹果,名次前移两位,位居第六。这也引发了主流PC厂商对于超低价便携笔记本市场的重视,并加快了发布和推广的步伐。当然在推广的过程中,厂商如何处理好价格、性能、渠道利益等多方面的关系,对于超低价便携笔记本能否成为笔记本的一个主要市场也是至关重要的。当然,其最终能否替代目前的低端笔记本,还是由市场和用户来决定。

作者:孙永杰 阅读() 评论()  编辑 发表于:2008-08-07 08:03
文章评论
  • # 半导体硅片RCA清洗技术
  • 半导体硅片RCA清洗技术
     传统的RCA清洗技术:所用清洗装置大多是多槽浸泡式清洗系统
      清洗工序: SC-1 → DHF → SC-2
      1. SC-1清洗去除颗粒:
    ⑴ 目的:主要是去除颗粒沾污(粒子)也能去除部分金属杂质。
    ⑵ 去除颗粒的原理:
      硅片表面由于H2O2氧化作用生成氧化膜(约6nm呈亲水性),该氧化膜又被NH4OH腐蚀,腐蚀后立即又发生氧化,氧化和腐蚀反复进行,因此附着在硅片表面的颗粒也随腐蚀层而落入清洗液内。
    ① 自然氧化膜约0.6nm厚,其与NH4OH、H2O2浓度及清洗液温
    度无关。
    ② SiO2的腐蚀速度,随NH4OH的浓度升高而加快,其与H2O2的浓度无关。
    ③ Si的腐蚀速度,随NH4OH的浓度升高而快,当到达某一浓度后为一定值,H2O2浓度越高这一值越小。
    ④ NH4OH促进腐蚀,H2O2阻碍腐蚀。
    ⑤ 若H2O2的浓度一定,NH4OH浓度越低,颗粒去除率也越低,如果同时降低H2O2浓度,可抑制颗粒的去除率的下降。
    ⑥ 随着清洗洗液温度升高,颗粒去除率也提高,在一定温度下可达最大值。
    ⑦ 颗粒去除率与硅片表面腐蚀量有关,为确保颗粒的去除要有一 定量以上的腐蚀。
    ⑧ 超声波清洗时,由于空洞现象,只能去除 ≥ 0.4 μm 颗粒。兆声清洗时,由于0.8Mhz的加速度作用,能去除 ≥ 0.2 μm 颗粒,即使液温下降到40℃也能得到与80℃超声清洗去除颗粒的效果,而且又可避免超声洗晶片产生损伤。
    ⑨ 在清洗液中,硅表面为负电位,有些颗粒也为负电位,由于两者的电的排斥力作用,可防止粒子向晶片表面吸附,但也有部分粒子表面是正电位,由于两者电的吸引力作用,粒子易向晶片表面吸附。
      ⑶. 去除金属杂质的原理:
    ① 由于硅表面的氧化和腐蚀作用,硅片表面的金属杂质,将随腐蚀层而进入清洗液中,并随去离子水的冲洗而被排除。
    ② 由于清洗液中存在氧化膜或清洗时发生氧化反应,生成氧化物的自由能的绝对值大的金属容易附着在氧化膜上如:Al、Fe、Zn等便易附着在自然氧化膜上。而Ni、Cu则不易附着。
    ③ Fe、Zn、Ni、Cu的氢氧化物在高PH值清洗液中是不可溶的,有时会附着在自然氧化膜上。
    ④ 实验结果:
    a. 据报道如表面Fe浓度分别是1011、1012、1013 原子/cm2三种硅片放在SC-1液中清洗后,三种硅片Fe浓度均变成1010 原子/cm2。若放进被Fe污染的SC-1清洗液中清洗后,结果浓度均变成1013/cm2。
    b. 用Fe浓度为1ppb的SC-1液,不断变化温度,清洗后硅片表面的Fe浓度随清洗时间延长而升高。
      对应于某温度洗1000秒后,Fe浓度可上升到恒定值达1012~4×1012 原子/cm2。将表面Fe浓度为1012 原子/cm2硅片,放在浓度为1ppb的SC-1液中清洗,表面Fe浓度随清洗时间延长而下降,对应于某一温度的SC-1液洗1000秒后,可下降到恒定值达4×1010~6×1010 原子/cm2。这一浓度值随清洗温度的升高而升高。
      从上述实验数据表明:硅表面的金属浓度是与SC-1清洗液中的金属浓度相对应。晶片表面的金属的脱附与吸附是同时进行的。
      即在清洗时,硅片表面的金属吸附与脱附速度差随时间的变化到达到一恒定值。
      以上实验结果表明:清洗后硅表面的金属浓度取决于清洗液中的金属浓度。其吸附速度与清洗液中的金属络合离子的形态无关。
    c. 用Ni浓度为100ppb的SC-1清洗液,不断变化液温,硅片表面的Ni浓度在短时间内到达一恒定值、即达1012~3×1012原子/cm2。这一数值与上述Fe浓度1ppb的SC-1液清洗后表面Fe浓度相同。
      这表明Ni脱附速度大,在短时间内脱附和吸附就达到平衡。
    ⑤ 清洗时,硅表面的金属的脱附速度与吸附速度因各金属元素的不同而不同。特别是对Al、Fe、Zn。若清洗液中这些元素浓度不是非常低的话,清洗后的硅片表面的金属浓度便不能下降。对此,在选用化学试剂时,按要求特别要选用金属浓度低的超纯化学试剂。
    例如使用美国Ashland试剂,其CR-MB级的金属离子浓度一般是:H2O2 <10ppb 、HCL <10ppb、NH4OH <10ppb、H2SO4<10ppb
    ⑥ 清洗液温度越高,晶片表面的金属浓度就越高。若使用兆声波清洗可使温度下降,有利去除金属沾污。
    ⑦ 去除有机物。
    由于H2O2的氧化作用,晶片表面的有机物被分解成CO2、H2O而被去除。
    ⑧ 微粗糙度。
    晶片表面Ra与清洗液的NH4OH组成比有关,组成比例越大,其Ra变大。Ra为0.2nm的晶片,在NH4OH: H2O2: H2O =1:1:5的SC-1液清洗后,Ra可增大至0.5nm。为控制晶片表面Ra,有必要降低NH4OH的组成比,例用0.5:1:5
    ⑨ COP(晶体的原生粒子缺陷)。
    对CZ硅片经反复清洗后,经测定每次清洗后硅片表面的颗粒 ≥2 μm 的颗粒会增加,但对外延晶片,即使反复清洗也不会使 ≥0.2 μm 颗粒增加。据近几年实验表明,以前认为增加的粒子其实是由腐蚀作用而形成的小坑。在进行颗粒测量时误将小坑也作粒子计入。
    小坑的形成是由单晶缺陷引起,因此称这类粒子为COP(晶体的原生粒子缺陷)。
    据介绍直径200 mm 硅片按SEMI要求:
    256兆 ≥ 0.13 μm,<10个/ 片,相当COP约40个。 



    相关型号:UPD8251AC CS4331KS TS461CLT AQW214S EP1C12F324C6  http://www.yule2000.com/UPD8251AC_ic.htm http://www.yule2000.com/CS4331KS_ic.htm http://www.yule2000.com/TS461CLT_ic.htm http://www.yule2000.com/AQW214S_ic.htm http://www.yule2000.com/EP1C12F324C6_ic.htm  
    lxy | 2008-08-07 13:45
  • # re: 谁将成为笔记本市场的鸡肋
  • 只能说你的文章是狗屎
    不满 | 2008-08-08 14:15
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